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發(fā)布時間:2015-03-05 09:46:19 更新時間:2019-09-24 08:08:59 作者:紅星機(jī)器
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工藝
隨著我國電力行業(yè)的快速發(fā)展,對于脫硫石灰石粉的需求量也逐漸遞增,要想實(shí)現(xiàn)優(yōu)質(zhì)的脫硫石灰粉粉制備,需要對其生產(chǎn)工藝進(jìn)行正確選擇,本文就脫硫石灰石粉制備工藝進(jìn)行對比介紹。
脫硫系統(tǒng)按工藝區(qū)劃分為4個區(qū)域:石灰石粉磨制區(qū)、石灰石漿液制備區(qū)、吸收塔區(qū)和石膏脫水區(qū)。石灰石粉磨制是脫硫工藝流程中重要的首道工藝。通常采用的石灰石粉制備工藝有干磨系統(tǒng)和濕磨系統(tǒng)兩種。
1、干磨
干磨系統(tǒng)的工藝流程是:石灰石從料倉進(jìn)入干式磨機(jī),磨制成250?325目(按美國泰勒標(biāo)準(zhǔn),約為0.061?0.043mm)的石灰石粉,由布袋吸塵器收集進(jìn)人石灰石漿制備粉倉。粉倉中的石灰石粉由給料裝置定量配送至石灰石漿液槽,與水配制成一定濃度的石灰石漿液,然后由漿液泵輸送至吸收塔。
干磨系統(tǒng)的主要設(shè)備立式磨,該機(jī)集細(xì)碎、烘干、粉磨、選粉、輸送為一體,具有粉磨效率高、電耗低、烘干能力大、產(chǎn)品細(xì)度易于調(diào)節(jié)、工藝流程簡單、占地面積小、噪音低、無粉塵污染、磨耗低、檢修方便、運(yùn)行可靠等優(yōu)點(diǎn)。立式磨的石灰石粉磨系統(tǒng)見下圖。
2、濕磨
濕磨系統(tǒng)工藝流程為:石灰石在濕式磨機(jī)中先與水混合,直接磨制成石灰石漿液,由泵輸送至水力旋轉(zhuǎn)器進(jìn)行分離,合格的顆粒石灰石漿液進(jìn)人石灰石漿液罐,再通過漿液泵輸送至吸收塔,而不合格的大顆粒石灰石漿液被重新送回磨機(jī)磨制,如此循環(huán)運(yùn)行。
濕磨系統(tǒng)的主要設(shè)備是濕式球磨機(jī),濕式球磨機(jī)目前仍是脫硫系統(tǒng)運(yùn)行中較廣泛的一種石灰石制漿設(shè)備,濕式球磨機(jī)系統(tǒng)見圖。
1、系統(tǒng)布置不同
干式磨粉系統(tǒng)與制漿系統(tǒng)相互獨(dú)立,制漿區(qū)和磨粉區(qū)的距離不受限制,特別適合大出力和集中制備吸收劑的需要。尤其適合改造工程項(xiàng)目,可使總平面布置更具靈活性。
濕式磨粉系統(tǒng)與制漿系統(tǒng)相互關(guān)聯(lián),一般石灰石磨制區(qū)和漿液罐的距離不宜太遠(yuǎn),其系統(tǒng)需定期清洗,漿液一旦在設(shè)備和管道中凝結(jié)或者積垢,清理十分麻煩,且檢修工作量很大。
2、設(shè)備投資費(fèi)用不同
干磨制粉系統(tǒng)工藝流程簡單,布局緊湊,建筑面積小,占地面積約為臥式干磨制粉系統(tǒng)的70%,建筑空問約為濕磨制粉系統(tǒng)的60%且可露天布置,直接降低了企業(yè)投資費(fèi)用。干磨本身有分離器,不需要另加選粉機(jī)和提升設(shè)備。出磨含塵氣體可直接由袋式收塵器或電收塵器收集。根據(jù)磨機(jī)制造廠的報(bào)價(jià),濕磨機(jī)價(jià)格比干磨機(jī)高10%左右。
3、工藝流程設(shè)計(jì)差別大
干磨工藝流程簡單、占地面積及占用空間小,本身帶有選粉機(jī),不需要另加選粉機(jī)和提升設(shè)備。出磨含塵氣體可直接由高濃度袋收塵器或電收塵器收集,故工藝簡單,布局緊湊,可露天布置。而濕式球磨機(jī)不具備以上優(yōu)勢。
4、產(chǎn)品質(zhì)量差別
產(chǎn)品的化學(xué)成分穩(wěn)定、顆粒級配均齊,有利于煅燒。物料在立式干磨內(nèi)停留的時間僅為2~3min,而在濕式球磨機(jī)內(nèi)則要15~20rain。所以立式干磨產(chǎn)品的化學(xué)成分及細(xì)度可以很快被測定和校正。
5、維修費(fèi)用不同
濕磨工藝的系統(tǒng)維護(hù)工作多,管道磨損及定期清洗工作量大,必然增加成本。
某電廠石灰石制粉工藝方案比較見下表。
由表可看出,使?jié)衲シ勰ハ到y(tǒng)比使用干磨粉磨系統(tǒng)多投資近10%。而各項(xiàng)技術(shù)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)卻低于干磨粉磨系統(tǒng)。特別是單位產(chǎn)品電耗,干磨粉磨系統(tǒng)要比濕磨低40%。由此可見,干磨系統(tǒng)無論是技術(shù)指標(biāo)數(shù)值還是經(jīng)濟(jì)指標(biāo),都遠(yuǎn)低于濕式球磨機(jī)粉磨系統(tǒng)。
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